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            射頻輝光放電光譜儀(GD)

            簡要描述:輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結構的強有力手段,可以通過元素變化獲得鍍層結構、層間擴散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息,從而改善工藝條件等。主要應用行業有金屬冶金、半導體器件、LED芯片、薄膜太陽能電池、鋰電池陰陽極、光學玻璃、核材料等。

            • 產品型號:HORIBA GD Profil
            • 廠商性質:生產廠家
            • 更新時間:2021-08-20
            • 訪  問  量:3832

            詳細介紹

            解密鍍層工藝、解析鍍層結構——Profiler 2



            輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結構的強有力手段,可以通過元素變化獲得鍍層結構、層間擴散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息,從而改善工藝條件等。主要應用行業有金屬冶金、半導體器件、LED芯片、薄膜太陽能電池、鋰電池陰陽極、光學玻璃、核材料等。


            GD-Profiler 2 作為超快鍍層分析的理想工具,非常適合于導體和非導體復合鍍層的分析,操作簡單、便于維護,是鍍層材料研發、質控的理想工具。

            · 使用脈沖式射頻輝光源,可有效分析熱導性能差以及熱敏感的樣品。

            ·  采用多項技術,如高動態檢測器(HDD),可測試ppm-100%的濃度范圍,Polyscan多道掃描的光譜分辨率為18pm~25pm等。

            ·  分析速度快(2-10nm/s



            技術參數:

            1、射頻發生器-標準配置、復合D級標準、穩定性高、濺射束斑極為平坦、等離子體穩定時間極短,表面信息無任何失真。

            2、脈沖工作模式既可以分析常規的涂/鍍層和薄膜,也可以很好地分析熱導性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。

            3、Polyscan多道(同時)光譜儀可全譜覆蓋,光譜范圍從110nm-800nm,可測試遠紫外元素C、H、O、N和Cl。

            4、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有最大的光通量,因而擁有的光效率和靈敏度。

            5、高動態檢測器(HDD)可快速、高靈敏的檢測ppm-100%含量的元素。動態范圍為5×1010。

            6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載。

            7、功能強大的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測報告。

            8、HORIBA*的單色儀(選配)可極大地提高儀器靈活性,可實現固定通道外任意一個元素的同步測試,稱為n+1。

            9、適用于ISO14707和16962標準。


            儀器原理:

            輝光放電腔室內充滿低壓氬氣,當施加在放電兩極的電壓達到一定值,超過激發氬氣所需的能量即可形成輝光放電,放電氣體離解為正電荷離子和自由電子。在電場的作用下,正電荷離子加速轟擊到(陰極)樣品表面,產生陰極濺射。在放電區域內,濺射的元素原子與電子相互碰撞被激化而發光。


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