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NS3500 H 大面積高速三維成像掃描系統

簡要描述:NS-3500H 是一種準確、可靠的三維(3D)掃描系統,通過快速光學掃描模塊和信號處理算法實現實時共焦顯微圖像。在測量和檢測微觀三維結構,如半導體晶片,FPD產品,MEMS設備,玻璃基板,材料表面等方面擁有*的解決方案。

  • 產品型號:
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2021-08-19
  • 訪  問  量:1318

詳細介紹

NS3500H 大面積高速三維掃描系統

NS-3500H 是一種準確、可靠的三維(3D)掃描系統,通過快速光學掃描模塊和信號處理算法實現實時共焦顯微圖像。在測量和檢測微觀三維結構,如半導體晶片,FPD產品,MEMS設備,玻璃基板,材料表面等方面擁有*的解決方案。

Features & Benefits(性能及優勢):

  • 高分辨無損傷光學3D測量                               自動傾斜補償

  • 實時共焦成像                                                 簡單的數據分析模式

  • 多種光學變焦                                                 雙Z掃描

    大范圍拼接                                                    半透明基材的特征檢測

  • 實時CCD明場和共聚焦成像                            無樣品準備

  • 自動聚焦


Application field(應用領域):

NS-3500是測量低維材料的有前途的解決方案。

可測量微米和亞微米結構的高度,寬度,角度,面積和體積,例如

-半導體:IC圖形,凹凸高度,線圈高度,缺陷檢測,CMP工藝

- FPD產品:觸摸屏屏幕檢測,ITO圖案,LCD柱間距高度

- MEMS器件:結構三維輪廓,表面粗糙度,MEMS圖形

-玻璃表面:薄膜太陽能電池,太陽能電池紋理,激光圖案

-材料研究:模具表面檢測,粗糙度,裂紋分析

Dimension(尺寸):

Specification(規格):


Model

Microscope  NS-3500

備注


Controller    NS-3500E

物鏡倍率

10x

20x

50x

100x

150x


觀察/  測量范圍  

水平 (H): μm

1400

700

280

140

93


垂直 (V): μm

1050

525

210

105

70


工作范圍: mm

16.5

3.1

0.54

0.3

0.2


數值孔徑(N.A.)

0.30

0.46

0.80

0.95

0.95


光學變焦

x1 to x6


總放大倍率

178x to 26700x


觀察/測量光學系統  

針孔共聚焦光學系統


高度測量

測量掃描

長掃描 : 10 mm


顯示分辨率

0.001 μm


重復率 σ

0.010 μm

注 1

寬度測量

顯示分辨率

0.001 μm


重復率 3σ

0.02 μm

注 2

幀記憶

像素

1024x1024, 1024x768, 1024x384,   1024x192, 1024x96


單色圖像

12 bit


彩色圖像

8-bit for RGB each


高度測量

16 bit


幀速率

表面掃描

20 Hz to 160 Hz


線掃描

~8 kHz


自動功能

自動增益


激光共焦測量光源

波長

405nm


輸出

~2mW


激光等級

Class 3b


激光接收元件

PMT (光電倍增管)


光學觀察光源

10W LED


光學觀察照相機

成像元件

1/2" 彩色圖像 CCD 傳感器


記錄分辨率

640x480


自動調整

增益, 快門速度, White balance


數據處理單元

PC


電源

電源電壓

100 to 240 VAC, 50/60 Hz


電流消耗

500 VA max.


重量

顯微鏡

Approx. ~200 kg

(Measuring head unit : ~12 kg)


控制器

~8 kg


注1 :以100×/ 0.95物鏡對標準樣品(步長1μm)進行100次測量                                                                    

注 2 :以100×/ 0.95物鏡對標準樣品(5μm間距)進行100次測量。




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